一、清洗原理
       結(jié)合需清洗材料的不同屬性，通入不同的反應(yīng)氣體，在真空、放電等特殊場(chǎng)合下產(chǎn)生等離子體。
       在密閉容器中設(shè)置兩個(gè)電極形成磁場(chǎng)，用真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體越來(lái)越稀薄，分子間距及分子或離子的自由運(yùn)動(dòng)距離越來(lái)越遠(yuǎn)，受電磁場(chǎng)的作用，發(fā)生碰撞而形成等離子體。
       同時(shí)輝光放電，等離子體在電磁場(chǎng)內(nèi)空間運(yùn)動(dòng)，對(duì)被清洗材料表面進(jìn)行“轟擊”，改變材料表面性質(zhì)（清潔/粗化/刻蝕材料表面），增加表面活化能，提高表面附著力。
       通過(guò)等離子清洗機(jī)進(jìn)行表面處理， 提升工藝過(guò)程中材料的“結(jié)合”強(qiáng)度，進(jìn)一步提高產(chǎn)品性能和良率，對(duì)人體、材料及環(huán)境不產(chǎn)生危害。
二、應(yīng)用行業(yè)
       主要應(yīng)用于半導(dǎo)體（LED/（LED/IC/PCB）、3C類消費(fèi)電子(手機(jī)、筆記本電腦）、航空、塑膠、汽車、生物醫(yī)學(xué)、五金等生產(chǎn)制造領(lǐng)域。
三、產(chǎn)品信息（可選配）
     （一）主要技術(shù)參數(shù)：
                1.整機(jī)外形尺寸: 1050mm（W）×1850mm（H）×980m（D），外觀噴塑處理。
                2.反應(yīng)倉(cāng)尺寸:450mm(W)×400mm(H)×470mm(D);
                   電極載物板面積:330mm(W) ×380mm(D);
                   電極載物板層數(shù):2～6層可調(diào)。
                3.電源：主系統(tǒng)電源: 380×(1±10%)V(AC)  50Hz～60Hz  三相五線。
                4.等離子體頻率：射頻（13.56MHz）/中頻（40K Hz、80K Hz、100K Hz）
                5.等離子電源：射頻0～600W(可選配0～1000W）/中頻0～1000W連續(xù)可調(diào)。
                6.設(shè)備功率：≤3kW。
                7.控制方式：采用包括觸摸屏人機(jī)界面的PLC操控，操作方式包括自動(dòng)模式和手動(dòng)模式。 在自動(dòng)模式下將不同工藝參數(shù)按照配方方式管理，可同時(shí)存儲(chǔ)50組   不同的配方。使用時(shí)只需要將相應(yīng)配方號(hào)調(diào)出 即可。設(shè)備參數(shù)分級(jí)管理，設(shè)備操作員、工藝人員、維護(hù)人員使用不同口令管理不同參數(shù)，提高設(shè)備安全性。手動(dòng)模式用于實(shí)驗(yàn)工藝以及設(shè)備維護(hù)維修。
                8.MFC質(zhì)量流量計(jì)操控：標(biāo)準(zhǔn)配置1路（可根據(jù)客戶需求選配2～3路）。
                9.氣體流量：(0～300)ml/min （標(biāo)準(zhǔn)氣壓,0℃）。
              10.工作氣體(氧、氬等)接口壓力：≤0.45MPa。
              11.壓縮空氣（啟動(dòng)氣動(dòng)角閥）接口壓力：0.5Mpa。
              12.凈化冷卻氣體（氮?dú)猓┙涌趬毫Γ?.45MPa。
              13.設(shè)備工作節(jié)拍：?jiǎn)未吻逑磿r(shí)間≤8min（反應(yīng)時(shí)間240S左右）。
              14.工作真空度：10～150Pa。
     （二）反應(yīng)倉(cāng)：
                1.反應(yīng)倉(cāng)材質(zhì)：采用高純度304不銹鋼定制，降低氧化生銹現(xiàn)象。
                2.電極板（托盤(pán)）材質(zhì)：采用鋁合金或高純度304不銹鋼定制，降低氧化生銹現(xiàn)象。
                3.反應(yīng)倉(cāng)后部安裝有銅電極座，水平電極板通過(guò)該接口鎖定，牢固可靠，更有助于射頻源的穩(wěn)定輸出。
                4.倉(cāng)體左右兩側(cè)安裝有側(cè)托，用于支撐電極板。
                5.清洗對(duì)象的籃具置于電極板上，電極板通過(guò)銅帶與銅電極座相連。
                6.本設(shè)備提供的清洗模式為直接等離子體模式，直接等離子體模式為陽(yáng)、陰電極相間放置。
                7.電極可以同時(shí)安放2組～6組任意組合。電極面積為330×380(mm)，電極間距為2.5（cm）可調(diào)。
                8.反應(yīng)倉(cāng)真空平衡方面做了改進(jìn)，平衡閥能夠迅速解壓（10~30秒內(nèi)），避免了長(zhǎng)時(shí)間等待平衡時(shí)間，提高了生產(chǎn)效率。
     （三）真空泵：
                1.我們推薦使用BSV60直聯(lián)式油旋片真空泵，泵特點(diǎn)：風(fēng)冷，抽速快，抗氧化，耐腐蝕，維護(hù)成本低，可自行降低溫度過(guò)高的散熱體系，無(wú)需水冷。完全解決了油泵易氧化的問(wèn)題。

                （可根據(jù)客戶需求選配其他品牌）。